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한미반도체, 한화세미텍에 '본안 소송' 강경 대응… "원조 기술 훼손 시도"

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뉴스보이

2026.04.13. 14:14

한미반도체, 한화세미텍에 '본안 소송' 강경 대응… "원조 기술 훼손 시도"

간단 요약

양사 분쟁은 HBM 핵심 장비인 TC 본더 특허를 두고 벌어졌습니다.

한미반도체는 2016년 세계 최초 TC 본더 개발을 강조하며 대응에 나섰습니다.

이 기사는 5개 언론사의 보도를 교차 검증하여 작성되었습니다.

고대역폭메모리(HBM) 핵심 공정 장비인 열압착(TC) 본더를 둘러싸고 한미반도체와 한화세미텍 간의 특허 분쟁이 격화되고 있습니다. 한미반도체는 한화세미텍이 제기한 특허 소송에 대해 강력히 법적 대응하겠다고 밝혔습니다. 한미반도체는 자사가 2016년 HBM 생산용 TC 본더를 세계 최초로 개발하고 2017년 고객사에 공급하며 시장 표준을 정립한 '원조 기업'이라고 강조했습니다. 현재 글로벌 TC 본더 시장 점유율 1위를 기록하고 있으며, HBM 장비 관련 특허 163건을 보유하고 있습니다. 한미반도체는 해당 특허에 대한 비침해 사실이 명백하기 때문에 특허무효심판 대신 본안 소송 종결을 추진하고 있습니다. 한미반도체는 한화세미텍이 주장하는 특허에 대해 선사용권 자료와 무효 자료를 충분히 확보한 상태라고 설명했습니다. 이 분쟁은 SK하이닉스향 HBM TC 본더 공급 주도권 다툼에서 시작되었으며, 한화세미텍은 지난해 3월 SK하이닉스에 TC 본더를 납품했습니다. 한화세미텍은 지난해 5월 한미반도체 특허에 대한 무효심판을 청구하고, 하반기에는 한미반도체의 HBM3E용 TC 본더가 자사 특허를 침해했다며 역으로 손해배상 청구 소송을 제기했습니다. 한미반도체는 외부 기업의 어떠한 기술 탈취 시도에도 단호히 대응하고 정당한 권리를 끝까지 보호하겠다고 밝혔습니다.
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