사회
중국 CXMT, 설립 초기부터 삼성전자 D램 핵심 기술 탈취 정황 드러나
뉴스보이
2026.08.18. 22:51
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간단 요약
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삼성전자에서 28년간 근무한 전 모 씨가 CXMT의 조직적인 기술 탈취를 법정에서 증언했습니다.
유출된 정보는 1조 6천억 원 규모의 18나노 D램 공정 기술로, 검찰은 관련자 10여 명을 기소했습니다.
이 기사는 3개 언론사의 보도를 교차 검증하여 작성되었습니다.
이 기사는 3개 언론사의 보도를 교차 검증하여 작성되었습니다.
중국 최대 D램 기업인 창신메모리(CXMT)가 설립 초기부터 삼성전자의 핵심 기술을 탈취해 제품을 개발하려 했다는 법정 증언이 나왔습니다. 2016년 CXMT 창립 멤버로 합류한 전 모 씨는 최근 재판에 증인으로 출석해, 당시 경영진이 자체 연구소나 설비 없이 삼성전자의 공정 정보를 빼내는 데 집중했다고 진술했습니다.
유출된 기술은 삼성전자가 5년간 약 1조 6천억 원을 투입해 개발한 18나노 D램 공정 정보입니다. 여기에는 D램 제조 공정과 설비 조건값 등을 담은 약 600~618단계의 PRP(Process Recipe Plan) 자료가 포함된 것으로 파악됩니다.
검찰은 전 씨를 포함해 CXMT 개발 인력 10여 명을 국가핵심기술 유출 혐의로 기소했습니다. 삼성전자에서 28년간 근무했던 전 씨는 기술 유출 혐의가 인정되어 지난 4월 1심에서 징역 7년을 선고받았습니다.
업계에서는 이번 증언이 향후 삼성전자의 영업비밀 침해 소송이나 미국 국제무역위원회(ITC) 제소 등 대응 전략에 중요한 근거가 될 것으로 보고 있습니다. CXMT는 창업 10여 년 만에 세계 D램 시장 4위로 급성장했으나, 이번 사건으로 기술 탈취 논란이 더욱 거세질 전망입니다.
이 콘텐츠는 뉴스보이의 AI 저널리즘 엔진으로 생성 되었으며, 중립성과 사실성을 준수합니다. AI가 작성한 초안을 바탕으로 뉴스보이 에디터들이 최종검수하였습니다. (오류신고 : support@curved-road.com)
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