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차세대 메모리 고집적화와 반도체 검사 정밀도 높이는 국내 연구진의 성과

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뉴스보이

2026.10.28. 11:22

차세대 메모리 고집적화와 반도체 검사 정밀도 높이는 국내 연구진의 성과

간단 요약

UNIST와 POSTECH 연구팀이 산화하프늄 도메인벽 형성 원리를 규명해 차세대 메모리 개발의 토대를 마련했습니다.

DGIST 연구팀은 나사산 렌즈 기술로 초음파 검사 잡음을 줄여 반도체 품질 검사의 신뢰성을 높였습니다.

이 기사는 5개 언론사의 보도를 교차 검증하여 작성되었습니다.

UNIST 에너지화학공학과 이준희 교수팀과 POSTECH 최시영 교수팀이 차세대 메모리 소재로 주목받는 산화하프늄의 도메인벽 형성 원리를 밝혀냈습니다. 지난 8월 18일 국제학술지 '피지컬 리뷰 X'에 게재된 이번 연구는 산화하프늄이 얇은 박막에서도 강유전성을 유지한다는 점에 주목했습니다. 연구팀은 도메인 경계 형성 원리를 규명하고 원자 배열을 관측함으로써, 도메인 벽 간격을 줄여 메모리 집적도를 획기적으로 높일 수 있는 가능성을 열었습니다. 반도체 검사 기술 분야에서도 의미 있는 진전이 있었습니다. DGIST 전기전자컴퓨터공학과 장진호 교수 연구팀은 초음파 센서 렌즈 옆면에 나사산 형태의 홈을 새겨 영상 잡음을 억제하는 기술을 개발했습니다. 연구팀은 시뮬레이션을 통해 높이 500㎛, 경사각 30도의 설계 규격을 도출했으며, 이를 통해 초음파를 분산시켜 가장자리 잡음을 효과적으로 줄였습니다. 이 기술은 향후 전기차나 항공우주 분야와 같이 높은 신뢰성이 요구되는 반도체 품질 검사에 폭넓게 활용될 전망입니다.
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