사회
'반도체 기술 中유출' 前삼성전자 부장, 파기환송심서 징역 6년 4개월 선고
뉴스보이
2026.04.23. 15:45
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간단 요약
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삼성전자 18나노 D램 공정 및 장비 설계가 중국 창신메모리로 유출된 사건입니다.
항소심보다 무거운 형량으로, 국가 핵심 기술 침해의 죄질을 무겁게 봤습니다.
이 기사는 3개 언론사의 보도를 교차 검증하여 작성되었습니다.
이 기사는 3개 언론사의 보도를 교차 검증하여 작성되었습니다.
삼성전자 전 부장 김모씨가 반도체 핵심 공정 기술을 중국 경쟁업체로 유출한 혐의로 파기환송심에서 징역 6년 4개월과 벌금 2억 원을 선고받았습니다.
이는 항소심의 징역 6년보다 무거운 형량입니다. 함께 재판에 넘겨진 반도체 장비업체 A사 전 직원 방모씨는 징역 3개월을, 또 다른 김모씨는 징역 2개월에 집행유예 1년을 선고받았습니다.
서울고법 형사10 1부는 김씨가 삼성전자의 영업 비밀을 부정 취득하고 중국에 이를 사용해 죄질이 매우 무겁다고 밝혔습니다. 또한 국가 핵심 기술 침해는 국가 경쟁력에 악영향을 줄 수 있다고 지적했습니다.
이 사건은 삼성전자 18나노 D램 공정 관련 정보와 협력업체의 장비 설계 기술 자료가 중국 D램 업체 창신메모리테크놀로지(CXMT) 측으로 넘어갔다는 의혹에서 시작되었습니다.
대법원은 공범들이 NAS 서버에 기술 자료를 올리고 서로 주고받은 행위가 영업비밀 침해에 해당할 여지가 있음에도 무죄로 판단한 원심에 법리 오해가 있다고 보고 사건을 돌려보냈습니다.
이 콘텐츠는 뉴스보이의 AI 저널리즘 엔진으로 생성 되었으며, 중립성과 사실성을 준수합니다. AI가 작성한 초안을 바탕으로 뉴스보이 에디터들이 최종검수하였습니다. (오류신고 : support@curved-road.com)
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