DB하이텍이 주주환원 확대와 성장 투자를 병행하는 기업가치 제고 계획을 발표했습니다.
DB하이텍은 주주환원율 30%, 배당성향 20%, 총주주수익률(TSR) 25% 이상을 중장기 목표로 설정했습니다. 최근 3년간 30% 이상의 주주환원율을 유지했으며, 지난해에는 31.4%를 기록했습니다. 또한, 기존 보유 자사주 중 1.4%에 해당하는 59만2000주를 연내 소각할 계획입니다.
성장 전략의 핵심은 전력 반도체입니다. DB하이텍은 향후 5년간 약 2조원을 투자하여 8인치 파운드리 공정을 고도화합니다. 이를 통해 고전압 전력반도체 양산을 확대하고, 실리콘카바이드(SiC)와 질화갈륨(GaN) 기반 제품 사업화를 추진합니다. 중장기적으로는 8인치 공정 고도화, 팹리스 사업 확대, 12인치 웨이퍼 진출, 신사업 발굴 등 4대 축을 중심으로 성장 기반을 다집니다.
지배구조 측면에서는 상법 개정 사항을 정관에 반영하여 집중투표제를 도입합니다. 전자주주총회 체계를 구축하고, 감사위원 선임·해임 시 최대주주 및 특수관계인 의결권을 3%로 제한하는 장치도 명시할 예정입니다.
이 콘텐츠는 뉴스보이의 AI 저널리즘 엔진으로 생성 되었으며, 중립성과 사실성을 준수합니다.
AI가 작성한 초안을 바탕으로 뉴스보이 에디터들이 최종검수하였습니다. (오류신고 : support@curved-road.com)
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