경제
반도체 핵심 EUV 장비 도입 25일 단축…검사비 5억 절감 효과
뉴스보이
2026.06.02. 13:59
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간단 요약
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산업통상부 고압가스 안전관리법 시행령 개정으로 도입 절차가 간소화됐습니다.
삼성전자, SK하이닉스 등 국내 반도체 기업이 혜택을 받습니다.
이 기사는 16개 언론사의 보도를 교차 검증하여 작성되었습니다.
이 기사는 16개 언론사의 보도를 교차 검증하여 작성되었습니다.
반도체 핵심 공정에 사용되는 극자외선(EUV) 장비의 국내 도입 절차가 대폭 간소화되어 장비 도입 기간이 최대 25일 단축됩니다. 산업통상부는 2일 국무회의에서 글로벌 안전기준을 충족한 반도체 제조장비에 대한 고압가스 안전관리법 시행령 일부개정안이 의결되었다고 밝혔습니다.
이번 제도 개선으로 삼성전자와 SK하이닉스 등 국내 반도체 기업들은 EUV 장비 도입 시 검사 소요 기간이 기존 34일에서 9일로 줄어듭니다. 해외 공인검사기관의 내압·기밀 검사 비용도 장비당 약 5억 원 절감될 전망입니다.
개정안의 핵심은 EUV 장비를 현행 '고압가스 일반제조시설'이 아닌 '특정설비' 기준으로 관리하도록 분류를 변경하는 것입니다. 이를 통해 제조사의 품질 관리 능력을 확인하고 기존과 동등한 수준의 안전성을 확보하며, 3년 주기의 공장심사와 종합공정검사를 받게 됩니다.
이와 함께 물과 세제 대신 이산화탄소를 사용하는 친환경 액화 이산화탄소 세정설비의 국내 상용화를 위한 맞춤형 검사기준이 신설됩니다. 위험성이 낮은 고압가스 시설의 안전관리자 선임 기준도 현실에 맞게 완화됩니다.
김정관 산업부 장관은 이번 법령 개정이 안전 확보와 첨단산업 경쟁력 강화를 동시에 달성하는 규제혁신 사례라고 강조했습니다. 개정안은 다음 주 중 공포 후 즉시 시행될 예정입니다.
이 콘텐츠는 뉴스보이의 AI 저널리즘 엔진으로 생성 되었으며, 중립성과 사실성을 준수합니다. AI가 작성한 초안을 바탕으로 뉴스보이 에디터들이 최종검수하였습니다. (오류신고 : support@curved-road.com)
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