경제
삼성전자, 평택 P5 용적률 상향 추진…반도체 생산능력 1.5배 키운다
뉴스보이
2026.08.19. 13:23
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2026.08.19. 13:23
간단 요약
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산업시설용지 용적률을 350%에서 490%로 상향해 생산시설 규모를 키울 계획입니다.
P5 팹을 2층에서 3층으로 증축하면 클린룸이 늘어나 생산능력이 1.5배 확대됩니다.
이 기사는 3개 언론사의 보도를 교차 검증하여 작성되었습니다.
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삼성전자가 평택캠퍼스 내 건설 중인 차세대 반도체 생산시설 'P5'의 규모를 대폭 확대합니다. 이를 위해 삼성전자는 산업시설용지 용적률을 기존 350%에서 490%로 상향하는 계획을 추진 중입니다.
이번 증축 계획의 핵심은 P5 생산시설을 기존 2층에서 3층으로 높이는 것입니다. 층수가 늘어나면 반도체 생산의 핵심인 클린룸을 기존 4개에서 최대 6개까지 배치할 수 있게 되어, 팹 한 동당 생산능력이 약 1.5배까지 증가할 것으로 기대됩니다.
용적률 상향은 정부가 평택 반도체 사업장을 국가첨단전략산업 특화단지로 지정하며 마련한 특례를 활용합니다. 평택시는 오는 10월 국토교통부 산업입지정책심의회 심의를 거쳐 11월 중 승인 및 고시가 이루어질 것으로 전망하고 있습니다.
고덕국제화계획지구 일반산업단지 내에서 진행되는 이번 사업은 2030년까지 완공을 목표로 합니다. 삼성전자는 이번 시설 확충을 통해 글로벌 반도체 생산 경쟁력을 한층 강화할 방침입니다.
이 콘텐츠는 뉴스보이의 AI 저널리즘 엔진으로 생성 되었으며, 중립성과 사실성을 준수합니다. AI가 작성한 초안을 바탕으로 뉴스보이 에디터들이 최종검수하였습니다. (오류신고 : support@curved-road.com)
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