IT/과학
삼성전자·포스텍, 3D 낸드 성능 높이는 실리콘 결정 제어 기술 개발
뉴스보이
2026.08.07. 15:12
뉴스보이
2026.08.07. 15:12
간단 요약
간단 요약
마이크로웨이브 어닐링을 활용해 실리콘 결정의 성장 방향을 제어하는 데 성공했습니다.
이를 통해 고단수 낸드의 고질적인 저항 문제를 해결하고 데이터 처리 속도를 높입니다.
이 기사는 4개 언론사의 보도를 교차 검증하여 작성되었습니다.
이 기사는 4개 언론사의 보도를 교차 검증하여 작성되었습니다.
포스텍 황현상 신소재공학과·반도체공학과 교수 연구팀과 삼성전자가 공동 연구를 통해 3D 낸드(NAND) 채널 내부의 실리콘 결정 성장 방향을 제어하는 기술을 개발했습니다. 3D 낸드는 층을 쌓을수록 결정 경계가 늘어나 전기 저항이 커지고 데이터 처리 속도가 떨어지는 문제가 있었는데, 이번 기술로 이를 해결할 실마리를 찾았습니다.
연구팀은 마이크로웨이브 어닐링(MWA) 기술을 활용해 결정이 자라나는 출발점인 시드층을 형성했습니다. 전자레인지가 특정 분자에만 에너지를 전달하듯, MWA는 니켈과 실리콘이 맞닿은 부위에만 에너지를 집중시켜 결정 성장에 방향성을 부여했습니다. 이를 통해 기존 금속 유도 측면 결정화(MILC) 방식의 고질적 문제였던 위스커 충돌과 니켈 포획 현상을 극복했습니다.
실제 155단 3D 낸드 구조(채널 깊이 약 6.5㎛)에 이 기술을 적용한 결과, 채널 전체에 걸쳐 균일하게 정렬된 결정을 구현하는 데 성공했습니다. 연구팀은 이번 성과를 바탕으로 향후 400단 이상의 고적층 낸드 양산 공정에 기술을 적용할 계획입니다.
이번 연구는 반도체 분야 최고 권위 학회인 '2026 IEEE 국제 VLSI 기술 및 회로 심포지엄'에서 발표되었으며, 국제 학술지 '네이처 일렉트로닉스'의 연구 하이라이트로 선정되며 기술적 가치를 인정받았습니다.
이 콘텐츠는 뉴스보이의 AI 저널리즘 엔진으로 생성 되었으며, 중립성과 사실성을 준수합니다. AI가 작성한 초안을 바탕으로 뉴스보이 에디터들이 최종검수하였습니다. (오류신고 : support@curved-road.com)
• 이 콘텐츠는 뉴스보이의 AI 저널리즘 엔진으로 생성 되었으며, 중립성과 사실성을 준수합니다.
• AI가 작성한 초안을 바탕으로 뉴스보이 에디터들이 최종검수하였습니다. (오류신고 : support@curved-road.com)
