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한국전기연구원, 상온에서 다층 그래핀 입히는 'K-스퍼터링' 기술 개발

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뉴스보이

2026.09.27. 12:06

한국전기연구원, 상온에서 다층 그래핀 입히는 'K-스퍼터링' 기술 개발

간단 요약

기존의 까다로운 전사 공정 없이 상온에서 직접 그래핀을 성장시키는 원천기술을 확보했습니다.

인천대·경북대와의 교차 검증을 마쳤으며, 국내외 특허 출원을 통해 기술력을 입증했습니다.

이 기사는 5개 언론사의 보도를 교차 검증하여 작성되었습니다.

한국전기연구원(KERI) 전력케이블연구센터 김호섭 박사팀이 산업 현장에서 널리 쓰이는 코팅 장비인 스퍼터링을 개조해 'K-스퍼터링' 공정을 독자 개발했습니다. 이 기술은 별도의 가열 과정 없이 상온에서 한두 겹의 얇은 그래핀부터 여러 겹이 쌓인 그래파이트 박막까지 기판 위에 직접 성장시킬 수 있는 차세대 복합도체 제조 원천기술입니다. 기존 화학기상증착(CVD) 방식은 고품질 그래핀을 다른 소재 위로 옮겨 붙여야 하는 까다로운 전사 공정이 필요해 산업 현장 적용에 한계가 있었습니다. 연구팀은 스퍼터링 과정에서 탄소 입자의 거동을 치밀하게 분석해 배열 조건을 세밀하게 조절하는 직류 기반의 장치를 개발함으로써 이러한 기술적 난제를 극복했습니다. 연구의 신뢰성을 높이기 위해 인천대 김준호 교수팀, 경북대 이세희 교수팀과 협력해 첨단 장비를 동원한 교차 검증도 마쳤습니다. 해당 성과는 재료 표면 분야 국제 최상위급 학술지인 'Surface Coatings Technology(IF 6.9)'에 게재됐으며, 현재까지 국내 특허 3건과 국외 특허 1건의 출원을 완료했습니다. 연구팀은 향후 장비 규모를 키우고 연속 생산방식을 도입해 전력기기용 고성능 복합도체 상용화를 추진할 계획입니다. 이를 통해 우리나라 소재·부품·장비 산업의 경쟁력을 한층 높이는 데 기여할 것으로 기대됩니다.
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