한국표준과학연구원이 그래핀 양자저항표준 기술의 15년 성과를 집대성해 세계적 학술지의 첫 초청 논문을 장식했습니다.
이번 연구는 그래핀 기술이 기술성숙도 최고 단계인 9단계에 도달하며 실용화에 성공했음을 국제적으로 인정받은 사례입니다.
이 기사는 4개 언론사의 보도를 교차 검증하여 작성되었습니다.
이 기사는 4개 언론사의 보도를 교차 검증하여 작성되었습니다.
한국표준과학연구원(KRISS)이 영국물리학회 출판사가 기획한 ‘노벨상 컬렉션’의 첫 번째 초청 논문 집필을 주도했습니다. 100년 역사를 지닌 측정 전문 학술지 ‘Measurement Science and Technology(MST)’의 공식 초청으로 작성된 이번 논문은 채동훈 책임연구원이 제1저자 및 교신저자를 맡아 이끌었습니다.
연구진은 지난 15년간의 연구 성과를 집대성해 그래핀양자저항표준 기술의 실용화 가능성을 입증했습니다. 특히 그래핀 소자는 기존 갈륨비소 소자보다 운용 효율이 뛰어난 4K(절대온도)와 5T(자기장) 환경에서도 안정적으로 작동합니다. 이번 성과는 미국 NIST, 독일 PTB 등 11개국 표준기관 연구진과 협력해 국제 측정지침을 제정하는 데 기여했습니다.
제작 공정의 효율성도 획기적으로 개선했습니다. 연구진은 고가의 반도체 장비 대신 유리판을 활용한 ‘스텐실 방식’을 도입해 제작 기간을 기존 1주일에서 하루로 단축했습니다. 이를 통해 그래핀 기술은 기술성숙도 최고 단계인 9단계에 도달하며 실용화의 정점을 찍었습니다.
향후 연구진은 전기저항을 넘어 임피던스와 전류 측정으로 활용 범위를 넓힐 계획입니다. 전압, 저항, 전류 표준을 하나의 장치에 구현하는 차세대 양자전기표준으로의 확장 가능성도 제시하며 기술적 우위를 공고히 할 전망입니다.